近年來隨著中國經(jīng)濟步入中低速發(fā)展階段，中國房地產(chǎn)和電子設備等產(chǎn)業(yè)轉型升級，中國鍍膜玻璃產(chǎn)業(yè)發(fā)展進入結構調整期。而且，國內鍍膜玻璃生產(chǎn)企業(yè)數(shù)量較多，產(chǎn)能重復建設嚴重，行業(yè)市場競爭激烈。據(jù)統(tǒng)計，存儲市場增速則達到57%，且中國一直長期是集成電路消費大國，一般都是包括主體型號、前綴、后綴等組成，成為業(yè)界追逐的一大風口，信息、通訊、消費電子及汽車電子等高等電子產(chǎn)品EMS、JDM、ODM為主。如二極管就是采用半導體制作的器件，缺“芯”已經(jīng)稱為中國制造的一塊“芯”。計算機、移動電話或是數(shù)字錄音機當中的核心單元都和半導體有著極為密切的關連。

由金屬靶面通過反應濺射工藝形成化合物的過程中，化合物是在哪里形成的呢？由于活性反應氣體粒子與靶面原子相碰撞產(chǎn)生化學反應生成化合物原子，通常是放熱反應，反應生成熱必須有傳導出去的途徑，否則，該化學反應無法繼續(xù)進行。在真空條件下氣體之間不可能進行熱傳導，所以，化學反應必須在一個固體表面進行。反應濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結構表面進行。通威股份的硅材料目前產(chǎn)能達到6.5萬噸，今年達到8萬噸，明年大概是11萬噸。每噸成本在4萬左右，目前市場價格在6-8萬，公司的毛利達到28%。當然簡單點評一下其他業(yè)務，通威股份的光伏電站 養(yǎng)魚是一體化的，由于屬于分布式光伏發(fā)電，這種新模式的上網(wǎng)電價比較高，利潤可觀。

根據(jù)中國濺射靶材行業(yè)市場數(shù)據(jù)顯示：靶材在半導體材料中占比約為2.5-3%。上海和廣州是全國經(jīng)濟中心城市，是國際的港口城市，也是長三角的****城市。這里人才匯集、資源匯聚，對于長三角乃至于全國的發(fā)展都有重要的帶領和示范作用。由于半導體濺射靶材市場與晶圓產(chǎn)量存在直接關系，以中國大陸晶圓廠產(chǎn)能占大部分國家比例為15%計算。2018年中國半導體濺射靶材市場約1.2億美元，隨著晶圓廠產(chǎn)能向中國轉移，半導體用靶材市場將達到1.5億美元。同比增長25%。日本日礦金屬、東曹公司，美國霍尼韋爾、普萊克斯公司。

濺射靶材是用濺射法沉積薄膜的原材料，主要應用于面板顯示、半導體和磁記錄薄膜太陽能領域。特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的氣相沉積工藝，是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術，也是PVD的一種。它通過在PVD設備中用離子對目標物進行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。相比PVD的另一種工藝——真空鍍膜，濺射鍍膜工藝可重復性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結合力強等優(yōu)點。已成為制備薄膜材料的主要技術。

陶瓷靶材：ITO靶，一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2，三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、五氧化二鉭靶Ta2O5，五氧化二鈮靶Nb2O5，氧化鋅靶ZnO、氧化鋯靶ZrO、氧化鎂靶MgO、單晶硅靶、多晶硅靶.、氟化鎂靶MgF2、氟化鈣靶CaF2、氟化鋰靶LiF、氟化鋇靶BaF3，碳化硼靶B4C，氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC，硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、硒化鋅靶ZnSe、砷化鎵靶、磷化鎵靶、錳酸鋰靶，鎳鈷酸鋰靶，鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶，氧化鋅鎵靶，氧化鋅硼靶等… 純度：《99.9%—99.9999%》根據(jù)客戶要求加工成各種規(guī)格尺寸的靶材

主營產(chǎn)品：濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨 公司成立年份：2003
公司網(wǎng)址：http://UVTMCOM.glass.com.cn

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